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SK海力士正致力于推进其极紫外光刻(EUV)技术,以实现下一代DRAM的量产。公司于去年首次推出高数值孔径(High-NA)EUV设备,并于今年全面启动相关技术的研发。据悉,该公司已全面开始引入相移掩模(PSM)等新型材料,以提升EUV光刻性能。 (ZDNET Korea)。

SK海力士正致力于推进其极紫外光刻(EUV)技术,以实现下一代DRAM的量产。公司于去年首次推出高数值孔径(High-NA)EUV设备,并于今年全面启动相关技术的研发。据悉,该公司已全面开始引入相移掩模(PSM)等新型材料,以提升EUV光刻性能。 (ZDNET Korea)。

智通财经智通财经2026/08/11 04:56
SK海力士正致力于推进其极紫外光刻(EUV)技术,以实现下一代DRAM的量产。公司于去年首次推出高数值孔径(High-NA)EUV设备,并于今年全面启动相关技术的研发。据悉,该公司已全面开始引入相移掩模(PSM)等新型材料,以提升EUV光刻性能。 (ZDNET Korea)。
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