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A SK hynix está avançando com sua tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV) para produção em massa da próxima geração de DRAM. A empresa lançou pela primeira vez equipamentos EUV de alto número de abertura (High-NA) no ano passado e iniciou este ano o desenvolvimento completo da tecnologia. Segundo informações, a companhia já começou a implementar materiais inovadores como máscaras de fase (PSM) para melhorar o desempenho da litografia EUV. (ZDNET Korea)

A SK hynix está avançando com sua tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV) para produção em massa da próxima geração de DRAM. A empresa lançou pela primeira vez equipamentos EUV de alto número de abertura (High-NA) no ano passado e iniciou este ano o desenvolvimento completo da tecnologia. Segundo informações, a companhia já começou a implementar materiais inovadores como máscaras de fase (PSM) para melhorar o desempenho da litografia EUV. (ZDNET Korea)

智通财经智通财经2026/08/11 05:16
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SK Hynix está empenhada em avançar a sua tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV) para alcançar a produção em massa de próxima geração de DRAM. A empresa introduziu pela primeira vez o equipamento EUV de alta abertura numérica (High-NA) no ano passado e iniciou totalmente o desenvolvimento das tecnologias relacionadas este ano. Segundo informações, a empresa já começou amplamente a incorporar novos materiais, como máscaras de fase (PSM), para melhorar o desempenho da litografia EUV. (ZDNET Korea).
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