SK hynixは、次世代DRAMの量産を実現するために、極紫外線リソグラフィ（EUV）技術の推進に取り組んでいます。同社は昨年、初めてHigh-NA EUV装置を導入し、今年は関連技術の研究開発を本格的に開始しました。報道によると、同社はEUVリソグラフィ性能を向上させるため、フェーズシフトマスク（PSM）などの新材料の導入を全面的に開始しています。（ZDNET Korea）

SK hynixは、次世代DRAMの量産を実現するために、極紫外線リソグラフィ（EUV）技術の推進に取り組んでいます。同社は昨年、初めてHigh-NA EUV装置を導入し、今年は関連技術の研究開発を本格的に開始しました。報道によると、同社はEUVリソグラフィ性能を向上させるため、フェーズシフトマスク（PSM）などの新材料の導入を全面的に開始しています。（ZDNET Korea）

智通财经2026/08/11 05:16

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```htmlSKハイニックスは次世代DRAMの量産を目指して極紫外線リソグラフィ（EUV）技術の推進に取り組んでいます。同社は昨年、初めて高数値開口（High-NA）EUV装置を導入し、今年は関連技術の研究開発を全面的に開始しました。報道によると、同社はEUVリソグラフィ性能向上のため、位相シフトマスク（PSM）などの新しい素材の全面導入を始めています。（ZDNET Korea）```

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